345 Relief Full Kit | 3 pzs

Beneficios

Recupera la calma y el brillo natural de tu rostro con la línea 345 Relief de Dr. Althea, diseñada específicamente para regenerar, desinflamar y eliminar marcas post-acné.

¿Qué incluye este kit?
345NA Relief Cream 50ml: La crema regeneradora estrella. Con Niacinamida y Pantenol, unifica el tono, regula la grasa y calma brotes sin dejar sensación pesada.

345 Relief Cream Mist 60ml : Hidratación y calma sobre la marcha. Su fórmula bifásica con Agua de Arroz y Centella Asiática refresca tu piel y mantiene el efecto glowy incluso sobre el maquillaje.

345 Cream Mask : Un "shot" intensivo de alivio. Perfecta para días de irritación extrema o post-sol; nutre profundamente gracias a su suave tejido de celulosa.

Ideal para: Pieles sensibles, irritadas o con tendencia a imperfecciones que buscan una rutina vegana, libre de fragancias y altamente efectiva.

1 pza x 345 Cream Mask 

1pza x 345NA Relief Cream

1pza x 345 Relief Cream Mist 100ml

Formulado para:

• Hidratar y mantener la piel suave.
• Regenerar y mejorar la apariencia de la piel.
• Desinflamar brotes y calmar la piel irritada.
• Desvanecer manchitas y unificar el tono.
• Tratar la piel post-acné.
• Regular la producción de sebo para una piel equilibrada.

Tipo de piel:

Ideal para pieles secas, grasas, mixtas y sensibles.

Modo de uso:

• Limpia tu rostro con tu limpiador habitual y aplica tónico.
• Aplica una cantidad adecuada de crema en todo el rostro.
• Continúa con el resto de tu rutina, como contorno de ojos y protector solar durante el día.

Ingredientes activos:

• Niacinamida: Ayuda a iluminar y unificar el tono de la piel, fortalece la barrera cutánea y regula la producción de grasa.
• Pantenol: Hidratante y antiinflamatorio, retiene la humedad y calma la piel.
• Extracto de Centella Asiática y Lavanda: Calman y desinflaman la piel sensible.
• Resveratrol y Ceramidas: Potentes antioxidantes que fortalecen y protegen la piel.

*Checa la página individual de cada producto para la lista completa de ingredientes.